1、 均鍍能力強(qiáng)，低電流覆蓋力極強(qiáng)**的整平能力和出光速度，特別適用于直上鎳工藝。

2、 操作范圍寬廣，容易操作控制。

3、 鍍層的延展能力**，鍍層防腐能力強(qiáng)。

4、 應(yīng)用范圍寬，可應(yīng)用于鋼鐵件、黃銅件、鋅合金件及塑料等底材。

5、 高濃縮，低消耗，雜質(zhì)容忍度極高，維護(hù)使用方便。

1、NI-88開(kāi)缸劑減少鍍層內(nèi)應(yīng)力，使低電流密度區(qū)覆蓋率良好，用活性炭連續(xù)過(guò)濾只能除去微量的NI-88開(kāi)缸劑，電解消耗量也很少，NI-88開(kāi)缸劑

消耗量約為80-120ml/KAH

2、在新配鍍液時(shí)需同時(shí)加入NI-88 開(kāi)缸劑、NI-88補(bǔ)加劑、潤(rùn)濕劑發(fā)揮作用。NI-88補(bǔ)加劑消耗量為100-150ml/KAH

3、潤(rùn)濕劑MT-80可維持鍍液表面的張力，所以能防止針孔，MT-80適合于空氣攪拌。

1、 在備用槽內(nèi)加入所需體積二分之一的水，將水加熱至60～70℃加入所需硫酸鎳和氯化鎳，充分?jǐn)嚢柚寥芙猓?

2、 用10%稀硫酸(CP)調(diào)pH值至3.0，加入2～3ml/L雙氧水(30%)，攪拌半小時(shí)，然后用4%氫氧化鈉溶液(碳酸鎳固體)調(diào)pH值至5.5～6.0，并加溫至65～70℃，保溫半小時(shí)；

3、 維持水溫在50～55℃，加入2～3g/L活性碳，充分?jǐn)嚢璋霑r(shí)，靜置數(shù)小時(shí)，過(guò)濾至鍍槽；

4、 將所需硼酸另外用沸水溶解，過(guò)濾后加入鍍槽；

5、 加水至接近預(yù)定體積，用10%稀硫酸(CP)調(diào)PH至3.0恒溫在55℃左右，用瓦楞陰極在DK≈0.3A/dm2左右電解處理，至瓦楞板上低電流密度區(qū)銀灰色為止；

6、 取少量鍍液，用霍爾槽及小型鍍槽加入所需添加劑NI3000，在正常工藝條件下試鍍，若不正常, 則將大槽內(nèi)鍍液繼續(xù)進(jìn)行電解處理，至正常為止；

7、 在大槽內(nèi)，按規(guī)定量加入添加劑，在正常條件下試鍍，直至正常。

1、配制槽液選用的硫酸鎳、氯化鎳、硼酸的雜質(zhì)盡量純凈，性能優(yōu)良。

2、硼酸的溶解度不高，一般需要另外用沸水溶解后倒入槽中，并且在活性炭處理過(guò)濾后加入，防止硼酸過(guò)濾析出。

3、活性炭處理槽液時(shí)候，活性炭的加入應(yīng)該按照“少量多次”的補(bǔ)加原則。

4、瓦楞板：波浪狀的板，一般使用鐵片即可**次使用一定要事先全部鍍層鎳。

5、電解槽液。電解前先用大電流DK≈3A/dm2電解1-2分鐘后使用DK≈0.3A/dm2電解。如果電解過(guò)程中鍍層發(fā)黑，需要打磨后再繼續(xù)電解，至瓦楞板上低電流密度區(qū)銀灰色為止

NI除雜走位水、QF除鐵粉的使用

在鍍鎳過(guò)程中，鍍槽內(nèi)經(jīng)常有鐵雜質(zhì)，銅離子，鋅離子等雜質(zhì)產(chǎn)生，影響鎳鍍層的質(zhì)量，因此本公司特別推薦NI除雜走位水和QF除鐵粉這兩款產(chǎn)品。

這兩款產(chǎn)品不僅能夠有效的除去鍍液中的雜質(zhì)，還有一定的覆蓋和分散能力，使鍍層質(zhì)量大大提高。

其功能如下：

1、NI除雜走位水用于鋅合金基材鍍鎳、除鋅、除銅，它能改變鋅、銅離子電位與鎳共沉積。加入1-2ml/L NI除雜走位水可沉積20mg鋅及10mg銅雜質(zhì)，消耗量：100ml/KAH

2、NI除雜走位水具有強(qiáng)烈覆蓋和分散功能，特別適合深孔電鍍。

3、NI除雜走位水能夠抵消過(guò)多的主光劑，使槽液光劑保持穩(wěn)定性，使鍍件保持高雅白亮鍍層。

4、當(dāng)電鍍鐵管狀工件時(shí)，槽液中有較多的鐵雜質(zhì)，使鍍件產(chǎn)生毛刺，加入QF除鐵粉0.1-0.2g/L能使毛刺和針孔消除。

5、光亮鎳、珍珠鎳除雜水，絡(luò)合性除鋅、銅雜質(zhì)直接加入鍍槽不影響生產(chǎn)，消耗量：100ml/KAH